9-মিথাইল-9-ভিনাইল-9-সিলা-ফ্লোরেন

অর্গানোসিলিকন যৌগগুলি - ডিভিনাইলটেট্রাফেনাইলডিসিলোক্সেন-মুক্ত ডিফেনিলভিনাইলসিলেন অ্যারোমেটিক ভিনাইল-কার্যকরী অর্গানোসিলিকন যৌগগুলি UV-নিরাময়যোগ্য উচ্চ-প্রতিসরাঙ্ক অপটিক্যাল সিলিকন এবং ফটোলিথোগ্রাফি রজন সিস্টেমের জন্য

1. পণ্য ওভারভিউ

এই diphenylvinylsilane Organosilicone যৌগগুলি গলনাঙ্ক 58-59℃ সহ স্ফটিক সাদা কঠিন, যেখানে দুটি অনমনীয় ফিনাইল সুগন্ধযুক্ত রিং এবং একটি প্রতিক্রিয়াশীল ভিনাইল গ্রুপ সরাসরি সিলিকন সেন্টারে বন্ধনযুক্ত, Si-H হাইড্রাইড এবং হাইড্রোলাইজেবল অ্যালকোক্সি গ্রুপ থেকে মুক্ত, সিলিকন এবং অ্যাগনোসিবিলিটি অ্যাগানোসিবিলিটি সহ। সিলোক্সেন পলিমার। এটি নির্ভুল ফটোলিথোগ্রাফি ফটোরেসিস্ট বাইন্ডার, অপটিক্যাল ওয়েভগাইড সিলিকন উপকরণ এবং উচ্চ-ট্রান্সমিট্যান্স মাইক্রোইলেক্ট্রনিক প্যাকেজিং ফর্মুলেশনের জন্য UV/ফ্রি-র্যাডিক্যাল নিরাময়যোগ্য উচ্চ-প্রতিসরণকারী সংশোধক হিসাবে তৈরি করা হয়েছে। ভিনাইল-সংশোধিত সিলেন কাপলিং এজেন্টগুলির সাথে সংমিশ্রিত হলে, এটি র্যাডিকাল কপোলিমারাইজেশনের মাধ্যমে কোয়ার্টজ এবং অজৈব ফটোমাস্ক সাবস্ট্রেটগুলিতে উচ্চ-অনড়তা সুগন্ধযুক্ত ইন্টারফেসিয়াল স্তর তৈরি করতে পারে; এটি উল্লেখযোগ্যভাবে UV-নিরাময়যোগ্য সুগন্ধযুক্ত সিলিকন রেজিন ফটোরেসিস্টের প্রতিসরাঙ্ক সূচক এবং প্যাটার্ন রেজোলিউশন বাড়ায়; সুগন্ধযুক্ত ভিনাইল কো-মনোমার হিসাবে, এটি ক্রসলিংকড অ্যাডভান্সড লিথোগ্রাফি-গ্রেড সিলোক্সেন পলিমার ফটোরেসিস্ট ইলাস্টোমারের শুষ্ক-এচিং প্রতিরোধ এবং তাপমাত্রিক স্থিতিশীলতা বাড়ায়।

পূর্বের Si-H টাইপ মিথাইলডিফেনাইলসিলেন এবং সমস্ত অ্যালকক্সি আর্দ্রতা-নিরাময়যোগ্য সিলেন সিরিজের থেকে আলাদা, এই পণ্যটি ভিনাইল অসম্পৃক্ত সক্রিয় গ্রুপ গ্রহণ করে যা ইউভি বিকিরণের অধীনে দ্রুত র্যাডিকাল পলিমারাইজেশন শুরু করে, প্লাটিনাম অনুঘটক এবং হাইড্রোসিলিলেশন সিস্টেমের দ্বারা প্রয়োজনীয় জলজ পরিবেশের প্রয়োজনীয়তা দূর করে; ঘন ডাইফেনাইল সুগন্ধি গঠন উচ্চতর এচিং প্রতিরোধের আনে, যা অ্যালিফ্যাটিক ভিনাইল সিলেন ভেরিয়েন্ট দ্বারা অর্জন করা যায় না, পুরোপুরি সেমিকন্ডাক্টর মাইক্রোফ্যাব্রিকেশনের কঠোর প্রক্রিয়াকরণের চাহিদার সাথে মেলে।

2. কোর ফিজিক্যাল পারফরমেন্স স্পেসিফিকেশন

• গলনাঙ্ক: মান বায়ুমণ্ডলীয় চাপের অধীনে 58-59℃
• চেহারা: ঘরের তাপমাত্রায় অভিন্ন স্ফটিক সাদা কঠিন, গলে যাওয়ার সীমার উপরে উত্তপ্ত হলে কম-সান্দ্রতা স্বচ্ছ তরলে গলে যায়
• পণ্যের শ্রেণীবিভাগ: সুগন্ধযুক্ত ডিফেনাইল ভিনাইল-কার্যকরী অর্গানোসিলিকন যৌগ, সিলেন কাপলিং এজেন্টের জন্য ইউভি র‌্যাডিক্যাল নিরাময়যোগ্য উচ্চ-প্রতিসরণকারী মডিফায়ার, লিথোগ্রাফি সিলিকন রেজিন এবং সেমিকন্ডাক্টর-গ্রেড সিলোক্সেন পলিমার নির্ভুল উপাদান সূত্র

3. এক্সক্লুসিভ পণ্যের সুবিধা এবং ফর্মুলেশন সামঞ্জস্যপূর্ণ কর্মক্ষমতা

অনন্য মূল শক্তি

• 58-59 ℃ উচ্চতর গলনাঙ্ক কম রুম-তাপমাত্রার অস্থিরতা নিয়ে আসে, ভ্যাকুয়াম লিথোগ্রাফি বেকিং প্রক্রিয়ার সময় উপাদানের ক্ষতি এবং প্যাটার্ন দূষণ এড়ায়
• ডাইরেক্টলি বন্ডেড ভিনাইল গ্রুপ দ্রুত ইউভি-ইনিশিয়েটেড র‌্যাডিকাল ক্রসলিংকিং সক্ষম করে, মূল্যবান ধাতু অনুঘটক যোগ ছাড়াই সাধারণ ফটোইনিশিয়েটরদের সাথে সামঞ্জস্যপূর্ণ, ফর্মুলেশন খরচ কমানো এবং উৎপাদন কর্মপ্রবাহকে সরল করা
• ডুয়াল ফিনাইল অ্যারোমেটিক ব্যাকবোন ব্যতিক্রমী প্লাজমা ড্রাই-এচিং প্রতিরোধ ক্ষমতা প্রদান করে, মাইক্রোচিপ উৎপাদনে গ্যাসের ক্ষয় থেকে সূক্ষ্ম লিথোগ্রাফি প্যাটার্ন রক্ষা করে
• নন-হাইড্রাইড, নন-অ্যালকক্সি আণবিক গঠন আর্দ্রতা বা ট্রেস প্ল্যাটিনাম অমেধ্যের কারণে অকাল নিরাময় এড়ায়, এক-অংশের ফটোরেসিস্ট স্লারির শেলফের স্থায়িত্বকে ব্যাপকভাবে প্রসারিত করে
• ভিনাইল কপোলিমারাইজেশনের মাধ্যমে টিউনেবল ক্রসলিংক ঘনত্ব নিরাময় করা ফিল্মের গ্লাস ট্রানজিশন তাপমাত্রাকে অপ্টিমাইজ করে, আল্ট্রা-ফাইন সার্কিট ফ্যাব্রিকেশনের জন্য প্যাটার্নের দৃঢ়তা এবং স্ট্রেস রিলিফের ভারসাম্য বজায় রাখে

চার কোর সিলিকন উপকরণ সঙ্গে Synergistic ম্যাচিং প্রভাব

• কোয়ার্টজ ফটোমাস্ক এবং ফিউজড সিলিকা ওয়েভগাইড সাবস্ট্রেটের সারফেস প্যাসিভেশন মডিফায়ারের জন্য সুগন্ধযুক্ত ভিনাইল সিলেন কাপলিং এজেন্টের সাথে মিশ্রিত করুন
• সেমিকন্ডাক্টর UV-নিরাময়যোগ্য সিলিকন রেজিন ফোটোরেসিস্ট বাইন্ডারের জন্য ইচ রেজিস্ট্যান্স এবং রেজোলিউশন বর্ধক
• উচ্চ-নির্ভুল অপটিক্যাল ওয়েভগাইড ক্রসলিঙ্কড সিলোক্সেন পলিমার কোর লেয়ার উপকরণের জন্য তাপীয় স্টেবিলাইজার
• উন্নত মাইক্রোফ্যাব্রিকেশন R&D-এর জন্য উচ্চ-প্রতিসরণকারী সুগন্ধযুক্ত ভিনাইল অর্গানোসিলিকন ডেরিভেটিভস তৈরির জন্য কাস্টমাইজযোগ্য বিল্ডিং ব্লক

4. স্ট্যান্ডার্ড অপারেশন এবং দীর্ঘমেয়াদী স্টোরেজ স্পেসিফিকেশন

1. ভিনাইল গ্রুপের অনিচ্ছাকৃত প্রাক-পলিমারাইজেশন রোধ করতে কম-UV হলুদ আলোর ঢালের অধীনে সম্পূর্ণ গলনা, খাওয়ানো এবং ফটোরেসিস্ট যৌগিক ক্রিয়াকলাপ
2. একজাতীয় গলে যাওয়ার জন্য শক্ত কাঁচামালকে হালকাভাবে 59℃-এর উপরে গরম করুন, তারপরে সিলোক্সেন পলিমার, সিলিকন রেজিন বা মিলিত ভিনাইল সিলেন কাপলিং এজেন্টগুলির সাথে সমানভাবে মিশ্রিত করার জন্য কম শিয়ারের সাথে ধীরে ধীরে যোগ করুন।
3. শুধুমাত্র গলনাঙ্কের উপরে প্রি-প্রসেসিং হিটিং তাপমাত্রা নিয়ন্ত্রণ করুন, ভিনাইল ময়েটিগুলির তাপীয় স্বয়ংক্রিয় পলিমারাইজেশন প্রতিরোধ করতে অতিরিক্ত গরম এড়ান
4. নমুনা নেওয়ার পরে হালকা-অবরুদ্ধ আর্দ্রতা-প্রুফ পাত্রে শক্তভাবে সিল করুন, ঠান্ডা অন্ধকার গুদামে সংরক্ষণ করুন, দীর্ঘমেয়াদী পলিমারাইজেশন কার্যকলাপ বজায় রাখতে ফ্রি-র্যাডিক্যাল ইনিশিয়েটর এবং শক্তিশালী অক্সিডেন্ট থেকে আলাদা করুন

5. বিশেষায়িত লক্ষ্য অ্যাপ্লিকেশন পরিস্থিতি

• সেমিকন্ডাক্টর লিথোগ্রাফি সিলিকন ফটোরেসিস্ট সিস্টেমের জন্য সিলেন কাপলিং এজেন্টের সাথে যুক্ত ফটোমাস্ক পৃষ্ঠ পরিবর্তনের কাঁচামাল
• ওয়েফার-স্তরের UV-নিরাময়যোগ্য সিলিকন রেজিন ইমেজিং উপকরণগুলির জন্য উচ্চ-রেজোলিউশন প্যাটার্ন রিইনফোর্সিং অ্যাডিটিভ
• যোগাযোগ অপটিক্যাল ওয়েভগাইড সিলোক্সেন পলিমার কোর/ক্ল্যাডিং লেয়ার ফর্মুলেশনের জন্য লো-লস রিফ্র্যাক্টিভ অ্যাডজাস্টার
• সুগন্ধযুক্ত ভিনাইল অর্গানোসিলিকন সিরিজের উন্নত ফটোলিথোগ্রাফি উপকরণ ডিজাইনের জন্য ল্যাবরেটরি ইন্টারমিডিয়েট
• নির্ভুল মাইক্রোফ্লুইডিক চিপ সিলিকন স্ট্রাকচারাল আবরণের জন্য অ্যান্টি-এচ প্যাসিভেশন উপাদান

6. ব্যাচ গুণমান পরিদর্শন এবং গ্লোবাল এক্সপোর্ট কমপ্লায়েন্স

এই অর্গানোসিলিকন যৌগের প্রতিটি ব্যাচ সিলেন কাপলিং এজেন্ট, সিলিকন রেজিন এবং সিলোক্সেন পলিমারের সাথে কঠোর গলনাঙ্ক ক্রমাঙ্কন, ভিনাইল গ্রুপ সামগ্রী, ইউভি কিউরিং কনভার্সন রেট এবং প্লাজমা এচিং প্রতিরোধের পরীক্ষা করে, সেমিকন্ডাক্টর-গ্রেড বিশুদ্ধতা এবং ইলেকট্রনিক উপাদান শিল্প নিয়ন্ত্রণগুলি পূরণ করে। সম্পূর্ণ MSDS, স্ফটিক বিশুদ্ধতা শংসাপত্র এবং মাইক্রোফ্যাব্রিকেশন সামঞ্জস্য রিপোর্ট বিশ্বব্যাপী চিপ এবং ফটোনিক্স নির্মাতাদের জন্য ক্রস-বর্ডার লজিস্টিক সমর্থন করার জন্য প্রদান করা হয়।

7. প্রায়শই জিজ্ঞাসিত প্রশ্ন

প্রশ্ন 1: অপটিক্যাল এবং লিথোগ্রাফি অ্যাপ্লিকেশনে এই ডিফেনাইলভিনাইলসিলেন পূর্বের Si-H মিথাইলডিফেনাইলসিলেন থেকে কীভাবে আলাদা?

A1: এটি প্ল্যাটিনাম-ক্যাটালাইজড হাইড্রোসিলিলেশনের পরিবর্তে ইউভি র্যাডিকাল নিরাময়ের উপর নির্ভর করে, ফর্মুলেশনের জন্য কোনও কঠোর অ্যানহাইড্রাস অক্সিজেন-মুক্ত অপারেশনের প্রয়োজন নেই; এর সুগন্ধযুক্ত কাঠামো লিথোগ্রাফির জন্য প্রয়োজনীয় প্লাজমা এচিং প্রতিরোধের অনেক বেশি শক্তিশালী করে তোলে, যখন Si-H ভেরিয়েন্টগুলি চিপ উৎপাদনে দীর্ঘমেয়াদী শুষ্ক এচিং পদ্ধতি সহ্য করতে পারে না।

প্রশ্ন 2: এই সাদা কঠিন অতি-সূক্ষ্ম লিথোগ্রাফি নিদর্শনগুলির লাইন প্রস্থের নির্ভুলতা উন্নত করতে পারে?

A2: হ্যাঁ, অনমনীয় ডিফেনাইল কাঠামো UV নিরাময়ের পরে ফিল্ম থার্মাল সংকোচনকে সঙ্কুচিত করে, ইউনিফর্ম ক্রসলিংক নেটওয়ার্ক প্যাটার্ন প্রান্তের রুক্ষতা এড়ায়, পরবর্তী বেকিং এবং এচিং পদক্ষেপের সময় কার্যকরভাবে ন্যানোস্কেল লাইন প্রস্থের নির্ভুলতা বজায় রাখে।

প্রশ্ন 3: দৃশ্যমান আলোর এক্সপোজারের সাথে অনুপযুক্ত স্টোরেজ থেকে কী সমস্যা দেখা দেবে?

A3: পরিবেষ্টিত UV/দৃশ্যমান আলো ভিনাইল গ্রুপের ক্রমান্বয়ে স্বয়ংক্রিয়-পলিমারাইজেশনকে ট্রিগার করবে, যা অনিয়ন্ত্রিত সান্দ্রতা বৃদ্ধি এবং মিশ্র সিলিকন রেজিন এবং সিলোক্সেন পলিমার ফটোরেসিস্টের জেলেশনের দিকে পরিচালিত করবে, যার ফলে অবৈধ লিথোগ্রাফি ইমেজিং এবং নষ্ট ওয়েফার সাবস্ট্রেট।